产品中心
当前位置： 首页 > 产品中心

产品中心

汇聚全球知名薄膜耗材品牌，为半导体、光电行业提供一站式采购与技术服务

石英晶振片

Crystal Oscillators

镀膜系列配件

Coating Accessories

蒸发镀膜材料

Evaporation Materials

磁控溅射靶材

Sputtering Targets

设备清洗与提纯回收

Cleaning & Purification

热电偶系列

Thermocouple Series
▼

石英晶振片

Crystal Oscillators — 金/银/合金电极晶振片，5/6/8MHz全系列耗材

点击下载手册查看全部
750-1022-G10 石英晶振片

750-1022-G10

INFICON 合金电极 6MHz 晶振片（750-1022-G10）

6 MHz · 14 mm · 合金（铝）电极 · INFICON 牌 · 洁净室兼容转盘

  • 料号：750-1022-G10
  • 标称频率：6 MHz
  • 中心频率：5.984 MHz
查看详情 →
750-1026-G10 石英晶振片

750-1026-G10

INFICON 金电极 5MHz 晶振片（750-1026-G10）

5 MHz · 12.4 mm · 金电极 · INFICON 牌 · 洁净室兼容转盘

  • 料号：750-1026-G10
  • 标称频率：5 MHz
  • 中心频率：4.995 MHz
查看详情 →
750-1050-G10 石英晶振片

750-1050-G10

INFICON 金电极 5MHz 晶振片（750-1050-G10）

5 MHz · 12.4 mm · 金电极 · INFICON 牌 · 洁净室兼容转盘

  • 料号：750-1050-G10
  • 标称频率：5 MHz
  • 中心频率：5.0045 MHz
查看详情 →
SPC-1157-G10 石英晶振片

SPC-1157-G10

INFICON 金电极 6MHz 低热冲击晶振片（SPC-1157-G10）

6 MHz · 14 mm · 金电极 · 低热冲击 · 洁净室兼容转盘

  • 料号：SPC-1157-G10
  • 标称频率：6 MHz
  • 中心频率：5.985 MHz
查看详情 →
008-010-G10 石英晶振片

008-010-G10

INFICON 金电极 6MHz 晶振片（008-010-G10）

6 MHz · 14 mm · 金电极 · INFICON 牌 · 洁净室兼容转盘

  • 料号：008-010-G10
  • 标称频率：6 MHz
  • 中心频率：5.950 MHz
查看详情 →
186206 石英晶振片

186206

Maxtek 金电极 5MHz 晶振片（186206）

5 MHz · 12.4 mm · 金电极 · Maxtek 牌 · 洁净室兼容转盘

  • 料号：186206
  • 标称频率：5 MHz
  • 中心频率：4.988 MHz
查看详情 →
103264 石英晶振片

103264

Maxtek 金电极 6MHz 晶振片（103264）

6 MHz · 14 mm · 金电极 · Maxtek 牌 · 洁净室兼容转盘

  • 料号：103264
  • 标称频率：6 MHz
  • 中心频率：5.995 MHz
查看详情 →
▼

镀膜系列配件

Coating Accessories — 真空计、控制器、传感器等镀膜设备核心配件

品类繁多，具体型号可详询
BCG450 镀膜系列配件

BCG450

INFICON BCG450 三联真空计

Bayard-Alpert 热阴极 + 皮拉尼 + 电容膜盒 三联真空计 · 5×10⁻¹⁰ ～ 1500 mbar

  • 产品定位：INFICON Bayard-Alpert Pirani 电容式隔膜真空计（Triple-Gauge™），三大技术融合于单个紧凑型规管
  • 测量范围：5×10⁻¹⁰ ～ 1500 mbar（= 3.75×10⁻¹⁰ ～ 1125 Torr）
  • 精度（三段式）：1×10⁻⁸…50 mbar：±15% 读数；50…950 mbar：±5%；950…1050 mbar：±2.5%
查看详情 →
BPG400 镀膜系列配件

BPG400

INFICON BPG400 复合真空计

Bayard-Alpert 热阴极 + 皮拉尼复合真空计 · 5×10⁻¹⁰ ～ 1000 mbar

  • 产品定位：Bayard-Alpert 皮拉尼复合真空计，融合两种真空计功能于单个紧凑装置
  • 测量范围：5×10⁻¹⁰ ～ 1000 mbar（= 3.8×10⁻¹⁰ ～ 750 Torr），连续测量
  • 测量精度：±15% 读数（1×10⁻⁸ ～ 10⁻² mbar 范围，5 分钟稳定后）
查看详情 →
Cygnus 2 镀膜系列配件

Cygnus 2

INFICON Cygnus 2 薄膜沉积控制器

多功能薄膜沉积控制器 · OLED 等高端工艺 · ModeLock 频率测量

  • 产品定位：多功能薄膜沉积控制器（OLED 等高端工艺），ModeLock 频率测量 + Auto Z 自动声阻抗修正
  • 频率分辨率：±0.0035 Hz（100 ms 采样）
  • 薄膜厚度/速率分辨率：±0.00433 Å（工具因子/密度=100/1，基频 6 MHz）；厚度精度 0.5% 典型
查看详情 →
IC6 镀膜系列配件

IC6

INFICON IC6 集成式薄膜控制器

多通道集成镀膜控制器 · 彩色 TFT 屏 + 菜单导航

  • 产品定位：多通道集成镀膜控制器，彩色 TFT 屏 + 菜单导航
  • 传感器输入：支持最多 8 个传感器输入（可平均）
  • 材料库：32 种标准材料（可自定义），支持声阻抗自动修正
查看详情 →
PSG5xx 镀膜系列配件

PSG5xx

INFICON PSG5xx 系列皮拉尼真空计

数字皮拉尼（热传导式）真空计 · 大气压至中真空 · 4 个型号

  • 产品定位：皮拉尼真空计，大气压至中真空测量（4 个型号：PSG500 / PSG500-S / PSG502-S / PSG510-S / PSG512-S）
  • 测量原理：皮拉尼热传导式（数字皮拉尼技术）
  • 测量范围：5×10⁻⁴ ～ 1000 mbar（空气/N₂ 等）
查看详情 →
SKY CDG100D 镀膜系列配件

SKY CDG100D

INFICON SKY CDG100D 电容薄膜真空计

加热式电容膜片真空计 · 100°C 恒温控制 · 0.2% 读数精度

  • 产品定位：加热式电容膜片真空计（SKY 品牌），100°C 恒温控制，适用半导体/等离子/腐蚀性工艺
  • 传感器材质：超纯氧化铝陶瓷（Al₂O₃）隔膜 + 316L 不锈钢（防腐、信号稳定、大气恢复快、预热快 50%）
  • 精度：0.2% 读数（1～1100 Torr/mbar 档）；小量程档（0.05～0.5 Torr）为 0.4% 读数
查看详情 →
SQC-310 镀膜系列配件

SQC-310

INFICON SQC-310 石英晶体监控器

高精度顺序沉积 / 共沉积控制仪（QCM）

  • 产品定位：高精度顺序沉积/共沉积控制仪（QCM）
  • 晶体频率范围：1.0–6.5 MHz
  • 频率分辨率：±0.012 Hz @ 6 MHz；0.03 Hz @ 10 次平均
查看详情 →
SQM-160 镀膜系列配件

SQM-160

INFICON SQM-160 速率/厚度监控器

多层膜速率 / 膜厚监测仪 · 标配 2 路传感器输入

  • 产品定位：多层膜速率/膜厚监测仪
  • 传感器输入：标配 2 路，可选 4 路
  • 测量频率范围：1.0–6.5 MHz（可调）
查看详情 →
Front-Load Single Sensor 镀膜系列配件

Front-Load Single Sensor

INFICON 前装式单晶体传感器

前载式单晶体传感器 · 400°C 工作温度 · 304 不锈钢

  • 产品定位：INFICON 前装式单晶体传感器，经实践检验的可靠性与耐用性，优异的热稳定性
  • 最高工作温度：400°C（等温环境）
  • 烘烤耐受：130°C（无水冷却烘烤）
查看详情 →
Front-Load Dual Sensor 镀膜系列配件

Front-Load Dual Sensor

INFICON 前装式双晶体传感器

前载式双晶体传感器 · 双晶冗余 · 304 不锈钢

  • 产品定位：INFICON 前装式双晶体传感器，双晶冗余设计，热稳定性优异
  • 外形尺寸：39.12 × 82.04 × 49.54 mm
  • 其他参数：同单传感器：400°C / 130°C 烘烤 / 14 mm 晶体 / 304 不锈钢 / CF40 或螺栓馈入
查看详情 →
▼

蒸发镀膜材料

Evaporation Materials — 高纯度金、银、铂等贵金属蒸发镀膜材料

品类繁多，具体型号可详询
铝颗粒 Al 铝颗粒 Al
镍颗粒 Ni 镍颗粒 Ni
钛颗粒 Ti 钛颗粒 Ti
金颗粒 Au 金颗粒 Au
铼颗粒 Re 铼颗粒 Re
银颗粒 Ag 银颗粒 Ag
金片 Au 金片 Au
硅颗粒 Si 硅颗粒 Si
钌颗粒 Ru 钌颗粒 Ru
主营各类蒸发镀膜金属颗粒、金属片材，适配电阻蒸发、电子束蒸发镀膜设备。原料纯度可控，晶粒均匀，蒸发过程稳定，不易喷溅起弧，成膜平整、重复性好，有效减少麻点、针孔不良。广泛用于光学镀膜、半导体、传感器、装饰镀膜、晶振元器件等领域。规格齐全，可定制尺寸，批次稳定性高，并可配合现场工艺提供选型参考，协助产线稳定良率。
单质
序号 名称 化学式 纯度
1 银 Ag 4N
2 铝 Al 3N-6N
3 金 Au 4N,5N
4 铬 Cr 2N5-4N5
5 铜 Cu 5N,6N
6 锗 Ge 5N
序号 名称 化学式 纯度
7 镍 Ni 3N-5N
8 硅 Si 6N
9 钛 Ti 4N5,5N
10 钒 V 3N,3N5
11 钴 Co 3N-5N
12 铁 Fe 4N
合金
序号 名称 化学式 纯度
1 AlSiCu0.5 5N
2 AiCu2 4N,5N
3 AiCu4 4N,5N
4 AuGeNi 4N
5 AuGe 4N
6 AuBe 4N
序号 名称 化学式 纯度
7 NiCr20 3N5
8 NiFe19 3N5
9 In 4N5,5N
10 Se 3N-5N
11 Sn 4N,5N
12 Zr 3N5
▼

磁控溅射靶材

Sputtering Targets — 高纯金属与陶瓷靶材，磁控溅射镀膜应用

品类繁多，具体型号可详询
铬靶 Cr 铬靶 Cr
硅靶 Si (铜背靶) 硅靶 Si (铜背靶)
大型钛靶 Ti 大型钛靶 Ti
金靶 Au 金靶 Au
陶瓷靶 陶瓷靶
铬平面靶 Cr 铬平面靶 Cr
全系列靶材 全系列靶材
ITO靶 In₂O₃-SnO₂ ITO靶 In₂O₃-SnO₂
钼靶 Mo (铜背靶) 钼靶 Mo (铜背靶)
主营各类溅射金属靶材，涵盖高纯单质金属靶及合金靶材。可根据镀膜设备制作平面靶、旋转管靶，支持定制尺寸与纯度，提供铜、铝、钛、铬、镍、金、银等多种金属及合金。靶材内部晶粒、致密度管控严格，减少溅射过程掉粒、异常放电，保障薄膜镀层稳定性。同时提供铜背靶绑定、精加工服务，支持小批量试样与量产供货，可配合工艺做参数对接。
高纯金属靶材
序号 名称 纯度 供货状态
1 银 Ag 4N,5N 圆靶、方靶、管靶
2 铝 Al 4N,5N,6N 圆靶、方靶、管靶
3 金 Au 4N,5N 圆靶、方靶
4 铋 Bi 4N,5N 圆靶、方靶
5 钴 Co 3N5,5N 圆靶、方靶
6 铬 Cr 2N5,3N 圆靶、方靶、管靶
7 铜 Cu 3N,4N,5N,6N 圆靶、方靶、管靶
8 铁 Fe 3N,4N 圆靶、方靶
9 铪 Hf 3N,3N5 圆靶、方靶
10 铟 In 4N,5N 圆靶、方靶
序号 名称 纯度 供货状态
11 锗 Ge 5N 圆靶、方靶
12 镁 Mg 4N 圆靶、方靶
13 锰 Mn 3N 圆靶、方靶
14 钼 Mo 3N5 圆靶、方靶、管靶
15 铌 Nb 3N5,4N 圆靶、方靶、管靶
16 镍 Ni 3N,4N,5N 圆靶、方靶、管靶
17 钯 Pd 4N 圆靶、方靶、管靶
18 铂 Pt 4N 圆靶、方靶
19 钌 Ru 4N 圆靶、方靶
20 锑 Sb 4N 圆靶、方靶
序号 名称 纯度 供货状态
21 硅 Si 6N 圆靶、方靶、管靶
22 锡 Sn 3N,4N,5N 圆靶、方靶、管靶
23 钽 Ta 3N5,4N 圆靶、方靶
24 碲 Te 4N 圆靶、方靶
25 钛 Ti 3N,4N,5N 圆靶、方靶、管靶
26 钒 V 3N 圆靶、方靶、管靶
27 钨 W 3N5,5N 圆靶、方靶、管靶
28 锆 Zr 3N,3N5 圆靶、方靶
29 锌 Zn 4N5,5N 圆靶、方靶
合金靶材
序号 名称 纯度 供货状态
1 AgCu 90:10wt% 圆靶、方靶、管靶
2 AuBe 90:1wt% 圆靶、方靶
3 AuGe 88:12wt% 圆靶、方靶
4 AuSn 按需定制 圆靶、方靶、管靶
5 AlSiCu 根据客户要求 圆靶、方靶、管靶
6 CuGa 80:20at% 圆靶、方靶、管靶
7 CuIn 50:50at% 圆靶、方靶、管靶
8 CoFe 50:50at% 圆靶、方靶
9 CuCr 95:5at%;90:10at% 圆靶、方靶
序号 名称 纯度 供货状态
10 NbTi 50:50at% 圆靶、方靶、管靶
11 NbZr 90:10wt% 圆靶、方靶
12 NiCr 80:20;70:30;60:40;50:50wt% 圆靶、方靶、管靶
13 NiFe 80:20at% 圆靶、方靶
14 AlSnCu 70:29:1wt% 圆靶、方靶、管靶
15 NiV 93:7wt% 圆靶、方靶、管靶
16 MoCu 90:10wt% 圆靶、方靶
17 SiAl 90:10at% 圆靶、方靶、管靶
18 TiAl 50:50at% 圆靶、方靶
序号 名称 纯度 供货状态
19 TiCu 97:3wt% 圆靶、方靶
20 TiNi 50:50at% 圆靶、方靶
21 TiZr 50:50at% 圆靶、方靶
22 TiV 根据客户要求 圆靶、方靶
23 WTi 90:10,90:20wt% 圆靶、方靶
24 WCu 根据客户要求 圆靶、方靶
25 ZnAl 95:5wt%;98:2wt% 圆靶、方靶、管靶
26 CoCrAlY 根据客户要求 圆靶、方靶
陶瓷靶材
序号 名称 纯度 供货状态
1 Al₂O₃ 3N 圆靶、方靶
2 SiO₂ 4N 圆靶、方靶、管靶
3 Ta₂O₅ 4N 圆靶、方靶
4 TiO₂ 4N 圆靶、方靶
5 ZnO 3N 圆靶、方靶
6 ZnS 3N 圆靶、方靶
7 ZrO₂ 4N 圆靶、方靶
序号 名称 纯度 供货状态
8 ITO In₂O₃/SnO₂=90/10wt% 圆靶、方靶、管靶
9 AZO Al₂O₃/ZnO=98/2wt% 圆靶、方靶、管靶
10 AlN 4N 圆靶、方靶
11 TiC 3N 圆靶、方靶
12 SiC 3N 圆靶、方靶
13 MoS₂ 3N 圆靶、方靶
14 HfO₂ 3N 圆靶、方靶
▼

设备清洗与提纯回收

Cleaning & Purification — 九道标准工序 · 5N+提纯纯度 · 4台精密检测

详细服务内容，请点击下方服务详情按钮

设备挡板清洗喷砂

PVD/CVD/MOCVD腔体、蒸镀环、Sputter载具全覆盖。化学浸泡+精密喷砂+多频超声波三道去膜，九道工序层层把关，清洗后表面粗糙度、颗粒度均达半导体级标准，让每一个部件恢复出厂状态。

贵金属回收提纯

金银铂钯钌铱锇铑靶以旧换新，含贵金属废料不论含量、形态均可回收。高纯金、银、铂提纯达5N（99.999%）以上，光谱分析仪现场检测定价，透明公允，有效降低客户材料成本。

清洗效果对比

所有部件经九道标准工序处理后，表面沉积膜层完全去除，粗糙度与颗粒度均经精密检测合格。弧形挡板、遮罩框架、圆环件、导轨条、网格板等各类部件清洗前后对比清晰可见，装机即可用。

九道标准工序 · 5N+ 提纯纯度 · 4台精密检测设备 · 7类材质覆盖

点击查看服务详情 →
▼

热电偶系列

Thermocouple Series — 半导体行业精密温度测量与控制解决方案

品类繁多，具体型号可详询

炉管温控热电偶

Profile T/C与Spike T/C，用于横式/立式炉管精密温度测量。采用R/S/B铂铑偶丝，0.50mm直径，陶瓷绝缘管（ALSINT 99.7%），石英/碳化硅保护管，适用于半导体芯片工厂和太阳能电池工厂。

外延炉/铸锭炉热电偶

Control T/C专用于ASM外延炉（0.25mm细丝）及多晶硅铸锭炉（ALD/GT-SOLAR/精功/京运通/汉虹等品牌）。氧化铝管+氧化保护管，2 Pin迷你插头，满足高精度温度控制需求。

T/C Wafer热电偶晶圆

晶圆级原位温度测量解决方案，2"~12"晶圆尺寸，最多34个测温点。用于Photo/CVD/PVD等工艺热板温度监控，热电偶结深埋硅片腔体，实现直接in-suit测量，精度更高、效率更优。

R/S/B铂铑偶丝 · 0.25-0.50mm多规格 · 陶瓷绝缘 · 石英/碳化硅保护管 · 晶圆级测温

点击查看产品详情 →

© 2015-2026 苏州润沁电子材料有限公司 版权所有

↑